Monokristalline Siliziumwafer
Beherrschung einer Reihe von Schlüsseltechnologien in der F&E und Herstellung von Siliziumwafern
Produkte
Zu den Hauptprodukten geh?ren 182mm und 210mm gro?formatige monokristalline Siliziumwafer
N-Typ
Sauerstoffarmes Gro?w?rmefeldverfahren Hocheffiziente Silizumwafer nach kundenspezifischen Anforderungen Hohe Reserve der Produktionskapazit?t
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P-Typ
Ausgereiftes Herstellverfahren mit moderner Ausrüstung Pr?zisere Erfüllung kundenspezifischer OEM-Anforderungen Prozess für niedrigen Leistungsabfall des Produktes
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Wesentliche Vorzüge
Gro?format, Dünnschicht, Planung und Fertigung nach dem Prinzip “Hohes Startniveau, hoher Standard und hohe Effizienz”, Bestrebung nach einem Vorzeigeunternehmen in der globalen Photovoltaikbranche
Ausgereiftes Verfahren, hocheffiziente N-Typ-Technologie
Beherrschung einer Reihe von Schlüsseltechnologien, darunter der Technologie zum Aufziehen großformatiger N-Typ Monokristalle, der Technologie zur Herstellung großformatiger Wafer und der Technik zur automatisierten Herstellung von Siliziumwafern, usw.
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Gokin bietet Ihnen professionelle Beratungsdienstleistungen, N-Typ Silizium Wafer Produktinformationen, Gesch?ftsmodelle der Photovoltaik-Industrie sowie Funktionen für den Betrieb und die Wartung des gesamten Lebenszyklus. Rufen Sie uns an.
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